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新型纳米抗菌无机填料抗菌防龋作用的动物实验研究
目的:探讨表面枝接长链烷基季铵盐的新型纳米抗菌无机填料在大鼠口腔内的抗菌防龋功能.方法:选取5周龄SD雄性大鼠20只,口腔内接种变形链球菌,同时辅以致龋饮食,建立大鼠口腔龋病模型;并随机分成实验组和对照组,每组10只.实验组以自行合成的新型纳米抗菌无机填料刷洗牙齿而对照组则用以普通的纳米二氧化硅无机填料.4周后进行大鼠口腔变形链球菌菌落计数;随后处死大鼠,鼠齿按照Keyes龋齿计分标准进行计分,所有结果进行统计学分析.结果:实验组大鼠口腔变形链球菌菌落计数少于二氧化硅处理组(P＜0.05);Keyes计分结果显示,实验组大鼠牙齿验面窝沟及平滑面龋损均低对照组(P＜0.05).结论:大鼠动物实验表明,新型纳米抗菌无机填料具有明显的抗菌防龋功能.
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光动力疗法对大鼠龋齿模型的防龋效果及机制
目的 观察光动力疗法(PDT)对大鼠龋齿模型的防龋效果,并探讨其防龋机制.方法 将以变异链球菌为致龋菌建立大鼠龋齿模型成功的40只21 d鼠龄、断奶的无特定病原体级Wistar雄性大鼠随机分为生理盐水组、血卟啉单甲醚(HMME)-PDT组、单纯激光组、单纯光敏剂组和氟化钠组,每组8只.生理盐水组大鼠用浸有150 μL生理盐水的小棉球反复涂搽磨牙各面5 min;HMME-PDT组大鼠用浸有150 μL40 mg·L-1 HMME的小棉球放于磨牙各牙面上,避光孵育5 min后,用532 nm的半导体激光垂直照射磨牙各面,功率密度为140 mW·cm-2,照射时间为90 s,能量密度为12.6J·cm-2;单纯激光组大鼠不进行光敏剂HMME处理,仅用532 nm的半导体激光垂直照射磨牙各面,照射时间、功率密度、能量密度均同HMME-PDT组;单纯光敏剂组大鼠仅用浸有150 μL 40 mg·L-1 HMME的小棉球放于磨牙各牙面上,避光孵育5 min,不进行激光照射;氟化钠组大鼠用浸有150 μL2 g·L-1氟化钠溶液的小棉球反复涂搽磨牙各面5 min;各组大鼠每周处理1次,连续4周,每次处理后及时采集大鼠口腔变异链球菌进行培养,平板菌落计数记录细菌抑制情况,连续4周后处死大鼠,记录龋齿Keyes计分,扫描电镜观察牙齿表面形态.结果 时间因素对大鼠口腔变异链球菌的生长无影响(F=0.11,P＞0.05),处理因素对大鼠口腔变异链球菌的生长有影响(F=230.89,P＜ 0.05),且处理和时间因素存在交互效应(F=6.36,P＜0.05).第1、2、3、4周处理后,HMME-PDT组和氟化钠组大鼠牙齿变异链球菌菌落数均少于生理盐水组、单纯光敏剂组和单纯激光组(P＜0.05);第1、2、3周处理后,HMME-PDT组大鼠牙齿变异链球菌菌落数均少于氟化钠组(P＜0.05).各组大鼠平滑面龋齿均未检出Dx级龋损;HMME-PDT组和氟化钠组大鼠平滑面龋齿均未检出Dm级龋损.HMME-PDT组、氟化钠组大鼠平滑面龋齿E、Ds级龋损的Keyes计分均显著低于生理盐水组、单纯光敏剂组和单纯激光组(P＜0.05),但HMME-PDT组与氟化钠组大鼠平滑面龋齿E、Ds级龋损的Keyes计分比较差异无统计学意义(P＞0.05).各组大鼠窝沟龋齿中,仅生理盐水组检出Dx级龋损.HMME-PDT组、氟化钠组大鼠窝沟龋齿E、Ds、Dm级龋损Keyes计分均显著低于生理盐水组、单纯光敏剂组和单纯激光组(P＜0.05),但HMME-PDT组与氟化钠组大鼠之间窝沟龋齿E、Ds、Dm级龋损的Keyes计分比较差异无统计学意义(P＞0.05).扫描电镜显示,生理盐水组和单纯光敏剂组大鼠牙釉质表面粗糙,凸凹不平,有大量凹坑状脱矿区和划痕;单纯激光组大鼠牙釉质表面相对光滑,有少量圆形凹坑并可见凹坑内熔融状结构;氟化钠组大鼠牙釉质表面相对光滑,脱矿区较少,并可见到脱矿区的再矿化;HMME-PDT组大鼠牙釉质表面较平整,点状凹陷减少,深脱矿区少,且脱矿区域大多表浅.结论 HMME-PDT可通过减少致龋菌数量、改善牙齿表面结构等途径对大鼠致龋模型起到明显的预防作用.
