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钴离子注入文献资料
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柔红霉素在钴离子注入修饰电极上的电化学行为及其应用
目的研究柔红霉素在Co/GC离子注入修饰玻碳电极上的电化学行为及其应用.方法柔红霉素在0.05 mol·L-1Na2HPO4-KH2PO4溶液(pH 6.82)中,用Co/GC离子注入修饰电极进行伏安测定.结果得到一个良好的还原峰,峰电位为-0.60V(vs SCE).峰电流与柔红霉素的浓度在2.84 ×10-8～1.42×10-6mol·L-1和1.42×10-6～1.28 ×10-5mol·L-1呈线性关系,r分别为0.999 2和0.999 3,检出限为1.42×10-8mol·L-1.用于注射液中柔红霉素的测定,回收率为95.8%～102.8%.用线性扫描、循环伏安法研究了柔红霉素的电化学行为及其机制.结论电极反应为具有吸附性质的准可逆过程,质子化的柔红霉素在电极表面得到2个电子和1个质子还原.离子注入电极对柔红霉素具有电催化活性.
