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安氏Ⅰ类错(牙合)正畸文献资料
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微型种植体支抗近移磨牙过程中的强支抗效应
背景:在正畸治疗中,移动下颌磨牙需要强大的支抗控制,这也成为临床正畸所遇到的一个难题.目的:采用微型种植体作支抗,观察近移安氏Ⅰ类错牙合患者下颌磨牙的临床效果及其作用特点.方法:选择15例下颌第一磨牙缺失成人患者,将24枚微型种植体植于下颌第二前磨牙与第一前磨牙之间颊侧牙槽骨内,Ni-Ti螺旋弹簧拉长后置于下颌第二磨牙与微型种植体之间,拉磨牙近中移动.通过测量下颌第二磨牙在近远中方向、垂直向的位置变化,以衡量磨牙的位置改变.并通过下颌中切牙的位置变化,评价支抗强弱.结果与结论:疗程10.4个月,下颌第二磨牙平均移动速度为0.8 mm/月;平均近中移动8.5 mm,垂直向没有变化;磨牙长轴向远中倾斜角度为2.5°,下颌中切牙位置无改变.提示所有下颌第二磨牙均被近移到了恰当的位置,未见前牙支抗丧失.种植体作为支抗在拉下颌磨牙近移的过程中,发挥了强支抗的作用.
关键词： 磨牙近移 微型种植体 安氏Ⅰ类错(牙合)正畸 支抗
