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磷的核磁共振谱文献资料
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含磷酸酯的自酸蚀粘接剂与牙釉质间的化学吸附
目的 研究含磷酸酯的自酸蚀粘接剂与天然牙釉质间的化学吸附. 方法 将成品自酸蚀粘接剂Xeno Ⅲ与牙釉质粉末室温下反应48 h后过滤分离滤液和不溶物,反复冲洗并干燥不溶物,用傅立叶变换红外光谱(FTIR)分别对干燥所得不溶物、牙釉质粉末和Xeno Ⅲ进行定性分析,并做差谱.用磷的核磁共振谱(31P NMR)分别对Xeno Ⅲ、Xeno Ⅲ与牙釉质的混合反应产物、过滤分离后的滤液和不溶物进行检测. 结果 不溶物的FTIR图谱中出现牙釉质和Xeno Ⅲ的特征谱带,与牙釉质差减后,Xeno Ⅲ的特征谱带依然存在,且在代表磷酸盐的谱峰区段1 200 cm-1～800 cm-1内峰位有明显的变化.混合反应产物的31P NMR较预处理剂的谱峰有所左移,且滤液和不溶物的31P NMR在峰型、峰位和峰数上均有较大差异.结论 含磷酸酯的自酸蚀粘接剂不仅可使牙釉质表面脱钙,还能化学吸附于牙釉质之上.
