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氧化锆全瓷基台与钛基台种植体支持氧化锆全瓷单冠的应力分布
目的 通过建立种植体支持的下颌第一前磨牙氧化锆全瓷冠三维有限元模型,分别加载垂直向力和水平向力,观察氧化锆全瓷基台与钛基台支持氧化锆全瓷冠时的应力分布.方法 利用ANSYS8.0软件包自身的建模软件,建立种植体支持的下颌第一前磨牙全瓷冠三维模型,分别加载600N垂直向力于咬牙 合面和225N水平向力于颊尖舌斜面,模拟口内大垂直向和水平向的咀嚼力.观察氧化锆全瓷基台与钛基台支持全瓷冠时的应力分布.结果 垂直加载时压应力均较大,钛基台的压应力比氧化锆基台的压应力大.不同基台支持下冠的应力分布图基本类似,大应力均集中在加载部位.水平载荷时,不同基台张应力均较大,但无明显差异.结论 氧化锆可成功应用于种植体的基台,其强度高、表面光滑、对金属颜色遮盖好且本身颜色接近牙体组织颜色.为了使植入体不致因过大扭力而折断,可选择硬度较小的材料即氧化锆制作基台.当基台受到较大扭力时,修复体发生折断,扭力被释放,以减少植入体的损伤.
